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标题:

有关德拜照相实验中的几点实际问题

作者:

李晓 PB01203008

江帆 PB01203227

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X射线研究多晶体物质的主要应用范围

n        鉴别矿物

n        对相的成分做定性和定量的分析

n        研究晶体中残余内应力和晶格的变形

n        研究晶体的取向

n        精确测定单胞的大小

n        测量晶粒的大小研究

多晶体的衍射

n        波在晶体上的衍射遵从布拉格方程.

n        根据布拉格方程

2dSinθ=λ

n        可知,晶面产生的衍射线是以原射线方向为轴,顶角为,顶点在样品被照射部分的圆锥,见图1.不同指数的晶面间距d不同,因而衍射圆锥顶角不同 .多晶体衍射圆锥见图2

1 多晶体的衍射

 

2 不同晶面族的衍射图

 

德拜照相原理

n        摄取德拜相的底片一般卷成圆桶状.

n        样品位于中心轴线.

n        底片图样就是衍射圆锥与其交线,如下图所示,称为德拜环.

 

辐射的选择

n        德拜法中经常采用X射线,射线波长的变化范围从0.15―0.20nm

n        最方便的是采用CuKα射线.

l        由于铜的导热性大,所以铜靶的X射线管负荷大于(电流强度增大和电压增高)其他轻元素靶的X射线管的负荷(焦点大小一样).因此,这种铜靶的X射线管可以发出最强的射线

l        铜靶的特征射线(CuKα)在X射线管小窗中,在空气中以及在用做分析的样品中很少被吸收,因而在摄取照相时的暴光时间比采用其他软射线时为短.

n        射线的波长越长,由同一物质的同一平面反射出的射线所呈布拉格角越大,X射线相上的线越少 线间距离也就越大.

 

X射线相的衍射线数

n        理论研究结果,X射线相上的线数与波长立方成反比:

n=k/λ3

n        实验中,X射线相上的线数也决定于晶系,晶系越低,X射线相上线数则越多,而线强度则较弱.主要原因是由于多重化因子所造成的.

 

X射线照相机的分辨率

n        X射线照相机的分辨率是定量的表示出X射线相上的线条分开的程度的.

n        照相机的分辨率为一系数,以“φ”表示,根据此系数与Δd/d的乘积(Δd-相临的平面间距之差,d-平均平面间距)可确定“ΔL”值(ΔL平面X射线相上相应于该二平面的衍射线间距):

φΔL/(Δd/d)

n        采用布拉格方程式来确定“φ”

Sinθ=nλ/(2d)

改变sinθ值,必须相等的改变nλ/(2d)

即:

Δ(sinθ) = Δ ( nλ/2d)

如此

cosθ=-nλΔd/(2d2) =-sinθΔd/d

Δd/d=Δθ/ tgθ

n        接下来确定ΔL值,从下图知:

2L=R×4θ

2ΔL=4R×Δθ

ΔL=2R×Δθ

 

n        最终形式可写成:

φ=2Rtgθ

n        照相机的半径和波长越大,面间距离“d”越小,则X射线照相机的分辨率越大.

n        当研究结构常数大的物质,和用重元素(例如)制成的X射线管时,得到高分辨率的唯一方法是将照相机的半径增大.

 

样品的最合适大小

n        样品厚度增加时,衍射辐射量随着增加,直到厚度增加到2/μ时为止

n        在这之后,强度开始减弱.

n        如果样品全部置于原射线束中,则用做衍射研究的圆柱体样品直径最好等于2/μ.

(J=J0×exp(-μL)×L2)

n        若取厚度较大的样品,则通过样品内部最长途径的衍射线将减弱.

n        当样品厚度增大时,样品的衍射强度也在增大.

n        当厚度为2/μ时,因吸收而减弱的最厉害的衍射线被记录在底片上的可能性最大,如果采用厚度较大的样品则此种反射线已不能出现.

n        但是样品厚度越大,衍射线越粗.因而测量的准确性越差.此外,采用较厚且强烈的吸收X射线的样品将使衍射相上的线条向高角度方向移动.

n        相反,当采用的样品直径为0.2-0.3毫米时(对于吸收较弱的样品,直径达0.3-0.5毫米)线条移动不大,不需进行校正就可正确测量出θ

 

粉末制成直径约0.21毫米的小圆柱体的方法

n        将粉末塞在毛细管内(这时粉末压缩).

n        将粉末用透明胶涂在细的(直径要小于百分之一毫米)玻璃丝上.

n        将粉末塞在透明胶或任何其他快干有机漆所制的小管内.

n        用液体透明胶将粉末调成糊状,滚成圆柱体.

(本实验中,我们实际采用的是第二种方法.)

 

曝光时间

n        曝光时间不足(或显影时间太短),则照相上所出现的线条不明显,而弱线则将不出现.

n        若曝光时间过长则照相上背影(迷雾)很大,很难发现出弱线,线条的测量也产生困难.如果显影时间过长,即使曝光时间正好也会发生同样的不良效果.

n        德拜照相的曝光时间决定于以下因素:

l        X射线管发射出的射线强度和波长;

l        被研究样品的原子序数和厚度;

l        X射线管焦点和样品之间的距离;

l        底片盒的直径和光阑直径(狭缝大小).

其中最大影响的是X射线管焦点大小和照相机装置的质量

 

被研究的物质

阳极

波长(Å)

管压(kV)

管流(mA)

曝光时间(s)

Mo

0.708

60

10

100-150

Cu

1.539

40

20

15-20

Cu

1.539

40

20

10-15

Cu

1.539

40

20

25-30

Fe

1.934

30

12

20-30

 

n        以下各种情况使曝光时间增加:

l    用单色器或滤波器

l    用胶水或套管制备粉末样品

l    有大量杂质存在,特别当这些杂质如果为非晶质时,在图象上将产生很大的迷雾

l    底片盒半径增大

l    其他一切条件相同时,曝光时间和管流,底片灵敏度成反比.

 

<完>

中国科学技术大学 2003 by USTC

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