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X射线光电子能谱

问题交流

设计性内容

n        作为例证,这里给出以下三个实验内容作为参考.

n        (1)利用X射线光电子能谱进行定性、定量和相应的化学状态分析

n        样品:化学清洗干燥后的单晶硅片.

n        要求:1)硅片表面含哪些元素;

n        2)这些元素的原子百分比含量;

n        3)分析这些元素的化学状态及其来源;

n        (2)利用改变光电子出射角作深度分布分析

n        样品:清洗后的单晶硅片.

n        要求:改变光电子出射角,测定各元素的含量比及化学状态变化.

n        (3)硅表面氧化钝化

n        样品:硅片表面经氩离子溅射清洁处理后,又在1 000℃下热退火.

n        要求:1)观测室温下不同的氧曝露量(0、3、10、30、100、1 000Langmtir)下硅表面氧的含量,硅和氧的反应情况,并给出硅表面氧的吸附曲线;

n        2)改变硅衬底的温度(如250 t)重复1)的实验,观察表面化学反应的情况,并做出该温度下的吸附曲线.

n        光电子能谱仪是结构复杂、技术要求高、设备昂贵、数量有限和使用人员多的实验室专用设备.从事该项实验的申请人员必须按程序计划安排、专人指导、限期完成.

 

 

 

 

<完>

中国科学技术大学 2003 by USTC

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