设计性内容

n        同步辐射X射线源曝光

n        根据具体的用于同步辐射x射线光刻光源的曝光室，参照上述常规x射线源曝光的工艺过程进行．不过，曝光时间可缩短到几分钟．曝光前需对抗蚀剂进行评估，即对抗蚀剂的灵敏度，衬度等进行预实验，以确定最佳的曝光和显影参数.

n        用实验室所给的掩膜进行曝光实验．在光学显微镜和电子显微镜下观察光刻图形．